Litograf Vistec

Elektronový litograf (firma Raith, typ Vistec EBPG5000plusES)

Popis:

Zařízení je určeno k vykreslování obrazců planárních mikrostruktur a nanostruktur do tenké vrstvy elektronového rezistu na typizovaných i atypických podložkách (izolanty, polovodiče). Na zařízení se vytvářejí fotošablony (určené k optickému rozmnožování struktury), razníky (pro UV replikaci struktur), matrice (pro galvanickou replikaci struktur) i funkční struktury vytvářené přímo na podložce (na povrchu nebo v tenké vrstvě pod povrchem). Široké aplikační pole pro využití planárních struktur, fotošablon, razníků a matric je rozvedeno na www stránkách ÚPT, v sekci výzkum –> elektronová litografie.

Základní parametry: energie elektronů 50 keV a 100 keV; velikost stopy 8 nm až 150 nm; rozlišení (minimální šířka zapsané čáry) 8 nm; přesnost pozicování svazku 0,5 nm;  maximální velikost expozičního pole 0,26 mm x 0,26 mm; přesnost navazování 15 nm; přesnost překryvu 15 nm; maximální velikost motivu 155 mm x 155 mm, rámečky pro uchycení podložek/substrátů do velikosti 6“ x 6“.

Kontakt: