Depozice tenkých vrstev fokusovaným iontovým svazkem o nízké energii; studium depozičních procesů (růstu vrstev) in situ

5433

Depozice tenkých vrstev fokusovaným iontovým svazkem o nízké energii; studium depozičních procesů (růstu vrstev) in situ

Úkolem projektu je dokončit stavbu zařízení pro aplikace fokusovaného iontového svazku s energií 50 V - 5 keV v oblasti 100 ém - 5 mm pro modifikace povrchu a depozice tenkých vrstev při tlacích pod 10-6 mb a pro studium depozičních procesů a analýzu povrchů (vrstev) metodami založenými na emisi sekundárních iontů a rozptylu dopadajících iontů (SIMS, LEISS). Aplikační část projektu bude věnována naprašování a přímé depozici tenkých vrstev s vybranými polovodivými, optickými a mechanickými vlastnostmi.
Řešitel v ÚPT: 
prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc.
Řešitel: 
Tomáš Šikola - Vysoké učení technické v Brně
Spoluřešitelé: 

Bohumila Lencová - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.

Agentura: 
GA ČR
Reg. č.: 
GA202/94/0565
Datum od: 
1. 1. 1994
Datum do: 
31. 12. 1996