Aparatura pro fotopolymeraci femtosekundovými laserovými pulsy

Popis:

Funkční vzorek experimentální aparatury vyvinutý na našem pracovišti umožňuje upravovat materiály citlivé na světlo pomocí velmi krátkých světelných pulsů. V současné konfiguraci pracuje na rozsahu vlnových délek 700 nm – 850 nm. Je rutinně využíván ve dvoufotonovém režimu, ve kterém je modifikován materiál citlivý na poloviční vlnové délce – např. při použití pulsů o centrální vlnové délce 780 nm polymerujeme rezisty citlivé na světlo o vlnové délce 390 nm. Hlavní výhodou dvoufotonového procesu je větší přesnost a rozlišení při výrobě mikrostruktur, kdy jsme schopni vytvořit prvky s detaily o velikosti méně než 150 nm. Maximální velikost vytvořené struktury je dána rozsahem pohybu polohovacího stolku, který je přibližně 25 mm v příčných osách X, Y a 300 um výškově v ose Z. Jádrem systému je laser MaiTai HP s délkou pulsů pod 100 fs, maximálním průměrným výkonem 3 W a rozsahem vlnových délek 690 nm – 1040 nm.

Kontakt: